fr.wedoany.com Rapport : La société Hangzhou Yuzhiquan Precision Instruments Co., Ltd. (Yuzhiquan), en collaboration avec le Laboratoire national clé des technologies optiques extrêmes et de l'instrumentation de l'Université du Zhejiang, a récemment lancé la « machine de lithographie 3D à écriture laser directe à 10 000 canaux ». Cet équipement fournit un support technologique fondamental pour les secteurs des semi-conducteurs et de la micro-nano fabrication, notamment les masques haut de gamme, les puces photoniques et les métasurfaces.
Fondée en décembre 2022 et basée à Hangzhou, en Chine, Yuzhiquan est composée d'actionnaires fondateurs issus de chercheurs scientifiques ayant une longue expérience dans le domaine de l'optique et d'entrepreneurs possédant une solide expérience en gestion d'entreprise. L'entreprise s'engage à résoudre les problèmes technologiques de lithographie critiques pour la souveraineté nationale.
Bien que la technologie de lithographie laser directe à deux photons offre une grande précision d'usinage, elle est limitée par les limites physiques du balayage à faisceau unique, ce qui rend difficile la satisfaction des besoins industriels de grandes surfaces et de haute efficacité. L'équipe de R&D de Yuzhiquan a proposé un « schéma de contrôle indépendant rapide à 10 000 canaux », capable de générer instantanément plus de 10 000 points focaux laser parallèles contrôlables indépendamment. Associé à un algorithme d'optimisation globale intelligent, il améliore l'uniformité de l'intensité lumineuse du réseau de points focaux à plus de 95 %, brisant ainsi le goulot d'étranglement d'efficacité du balayage à faisceau unique traditionnel.
Cet équipement se distingue par ses performances : un taux d'impression ultra-élevé pouvant atteindre plus de 200 millions de voxels par seconde ; dans des conditions de processus spécifiques, la taille minimale des caractéristiques peut atteindre moins de 50 nm ; la vitesse de balayage 2D atteint 40 mm²/min, soit plusieurs dizaines de fois celle des technologies traditionnelles, et la surface de traitement maximale peut couvrir entièrement une tranche de 12 pouces.
Outre son utilisation dans la fabrication de micro-nano masques haut de gamme tels que les masques photoniques, les masques DOE et les masques MEMS, cet équipement convient également aux besoins de processus personnalisés, de petits lots et nécessitant des itérations rapides. Les scénarios d'application incluent les puces photoniques et l'encapsulation avancée, prenant en charge la R&D de puces haut de gamme personnalisées et en petits lots ; les capteurs MEMS et les dispositifs microfluidiques, permettant un prototypage rapide de structures micro 3D complexes ; les composants optiques de précision, répondant aux exigences strictes des domaines de l'optique anti-contrefaçon et des communications optiques, tels que les superlentilles et les dispositifs DOE.
Cet équipement fournit également un outil de fabrication essentiel pour la production à grande échelle de domaines de pointe tels que les métasurfaces. En tant que composants clés pour les futurs AR/VR, LiDAR et communications 6G, les métasurfaces nécessitent traditionnellement des semaines d'usinage. La technologie à 10 000 canaux peut réduire considérablement le cycle d'usinage à quelques heures. Actuellement, les métasurfaces sont devenues la première catégorie de produits usinés par cet équipement à être mise en œuvre et présentant des avantages évidents, favorisant ainsi la commercialisation des industries de pointe connexes.
