fr.wedoany.com Rapport : Samsung SDS, la filiale informatique de Samsung, développe une technologie combinant le calcul quantique et l’intelligence artificielle (IA) afin de simuler et d’améliorer le processus de lithographie dans la fabrication de semi-conducteurs. L’entreprise prévoit de tester cette technologie par le biais d’une preuve de concept (PoC) au second semestre 2026. En cas de succès, le système pourrait être mis à la disposition de Samsung Electronics pour ses activités liées aux semi-conducteurs.
Le processus de lithographie utilise la lumière pour transférer des motifs de circuits microscopiques sur une tranche de silicium. Sa précision influence directement la densité des transistors et le rendement de production des puces. La fabrication avancée de puces repose sur des machines de lithographie à balayage par étapes de précision produites par l’équipementier néerlandais ASML, qui projettent les motifs à travers un masque sur une couche photosensible de la tranche.
Le cœur de ce projet réside dans le développement d’algorithmes capables de simuler virtuellement l’ensemble du processus avant la lithographie physique. L’ordinateur quantique assure la majeure partie des calculs lors de la phase de simulation, tandis que l’ordinateur classique traite les données générées et que l’intelligence artificielle identifie et corrige les erreurs potentielles de motifs. Selon les informations, Samsung SDS a déjà obtenu certains des algorithmes nécessaires et testera leur efficacité dans un environnement de fabrication de semi-conducteurs lors de la phase de preuve de concept. Ce système permettrait à Samsung de tester virtuellement les motifs de circuits avant d’entrer dans la phase de production physique, coûteuse.
Une simulation précise permet de détecter plus tôt les problèmes de lithographie, de réduire le nombre de tests physiques nécessaires au développement de nouveaux procédés de fabrication, et de diminuer le temps et les coûts liés à la gravure et à la structuration des tranches. En identifiant les défauts avant la production, il est possible d’augmenter le nombre de puces utilisables par tranche (rendement). Une structuration plus précise pourrait également permettre à l’entreprise de placer davantage de transistors dans un espace plus réduit, améliorant ainsi la densité des puces. Samsung estime que la combinaison du calcul quantique, du calcul classique et de la correction par IA soutiendra le développement de procédés de semi-conducteurs plus avancés.
L’intelligence artificielle a déjà été utilisée pour améliorer la lithographie assistée par ordinateur. Samsung avait précédemment indiqué que l’utilisation de la plateforme cuLitho de Nvidia et des bibliothèques CUDA-X pour la correction optique de proximité (OPC) avait permis d’améliorer de 20 fois les performances de sa lithographie assistée par ordinateur. La correction optique de proximité permet de prédire et d’ajuster les écarts de motifs susceptibles de se produire lors du transfert des conceptions de circuits sur la tranche. Ce dernier projet étend cette méthode en intégrant le calcul quantique dans le processus de simulation, mais cette technologie est encore en développement et son efficacité dépendra des résultats de la preuve de concept prévue.
