fr.wedoany.com Rapport : L'Université de Californie à Santa Barbara (UC Santa Barbara, UCSB) a reçu une subvention de 1,15 million de dollars de la National Science Foundation (NSF) des États-Unis pour l'acquisition d'un système d'impression nanométrique 3D rapide basé sur la lithographie à deux photons. Cet équipement améliorera les capacités de fabrication de l'installation de nanofabrication (Nanofab) de l'UCSB.
Le chercheur principal à l'origine de cette proposition est Galan Moody, professeur au Département de génie électrique et informatique de l'UCSB, avec la collaboration de quatre co-chercheurs principaux : Marley Dewey du Département de bio-ingénierie, Andrew Jayich du Département de physique, Sumita Pennathur du Département de génie mécanique et Andrea Young du Département de physique. Moody a déclaré que cette subvention permettra à l'UCSB de prendre une position de leader dans un domaine d'outils encore rares dans le milieu universitaire américain, seules quelques universités du pays possédant actuellement des équipements dotés de telles fonctionnalités.
L'équipe estime que cet équipement comble une lacune dans les méthodes de fabrication existantes. La proposition indique que les outils de nanofabrication actuels, bien qu'ils permettent la fabrication planaire (bidimensionnelle) à l'échelle des plaquettes de semi-conducteurs, diélectriques et métaux avec une résolution d'environ dix nanomètres, approchent de leurs limites ; la création de microstructures tridimensionnelles de plus en plus cruciales nécessite souvent des étapes supplémentaires complexes et chronophages. Moody explique que les techniques de lithographie traditionnelles ne peuvent transférer des motifs que sur des films minces de quelques centaines de nanomètres d'épaisseur, laissant peu d'espace pour la construction dans la dimension verticale.
Contrairement aux premiers systèmes de fabrication additive qui créent des objets tridimensionnels en empilant des couches minces, le nouveau système peut imprimer directement des microstructures en trois dimensions sur une puce de manière véritablement tridimensionnelle. La capacité unique de ce système ouvre de nouvelles voies pour la fabrication nano et micrométrique de structures et dispositifs complexes, sans être limitée par la géométrie ou le plan bidimensionnel. Un domaine d'application typique est la photonique quantique, où la perte de lumière lors du passage de la puce à la fibre optique est un problème persistant. Cet équipement peut imprimer des lentilles en polymère de moins de 50 micromètres de large sur le bord de la puce ou sur la fibre optique pour optimiser le mode optique, minimisant ainsi les pertes lors du couplage de la lumière.
