Shanghai Micro Electronics expose deux modèles de machines de lithographie sèche front-end

fr.wedoany.com Rapport : Le 6 novembre, Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. a exposé, au pavillon de la Chine de la 9e Exposition internationale d'importation de Chine, les modèles SSC800 et SSB800, deux machines de lithographie à projection par balayage sèche front-end développées de manière indépendante. Les deux équipements adoptent respectivement les filières technologiques KrF et I-line, destinées aux procédés de fabrication de semi-conducteurs de 110 nanomètres et plus, et de 280 nanomètres et plus, illustrant la plateforme technologique et l'architecture des systèmes essentiels des équipements de lithographie front-end nationaux.

La série SSB800 utilise la technologie de lithographie I-line, destinée aux procédés matures de 280 nanomètres et plus, principalement appliquée à la fabrication de semi-conducteurs de puissance, de circuits intégrés analogiques et de systèmes micro-électromécaniques. La série SSC800 utilise la technologie de lithographie KrF, destinée aux procédés de 110 nanomètres et plus, en mettant l'accent sur l'amélioration de la précision d'exposition, du contrôle de la distorsion et des performances de superposition, adaptée aux étapes de fabrication de semi-conducteurs exigeant une grande précision des dimensions de motifs et d'usinage.

Les modèles exposés cette fois adoptent une structure en coupe transparente, dévoilant l'agencement du trajet optique interne et des systèmes électromécaniques de la machine de lithographie. La plateforme d'équipement concernée intègre un objectif de projection et un système d'éclairage de haute précision, une double table porte-plaquette et une table porte-masque à grande vitesse, un système de transfert automatique de matériaux, ainsi qu'un système de capteurs d'alignement et de mise à niveau de haute précision ; elle repose sur une architecture standardisée de machine de lithographie à projection par balayage sèche front-end, adaptée respectivement aux deux filières technologiques I-line et KrF.

Shanghai Micro Electronics indique que ses équipements de lithographie sèche front-end ont fait l'objet de développements indépendants dans les systèmes essentiels tels que l'optique de projection, le contrôle du mouvement, la table porte-plaquette et l'alignement-mise à niveau. L'entreprise révèle que les performances d'imagerie des équipements de lithographie sèche front-end nationaux approchent déjà le niveau des produits avancés comparables à l'international, la précision de superposition et l'efficacité de production s'améliorant continuellement.

En ce qui concerne l'application en ligne de production, l'entreprise déclare que plusieurs équipements de lithographie sèche front-end fonctionnent de manière stable sur les lignes de production de masse d'entreprises chinoises de fabrication de puces logiques et de puces mémoire, ayant permis cumulativement la fabrication de plus de 10 millions de plaquettes, avec un taux de disponibilité effectif des équipements supérieur à 92 %.

Selon les informations divulguées par la société, le taux de localisation des composants clés des équipements concernés dépasse 90 %, et les produits ont achevé leur phase de conception définitive et sont entrés en phase de production de masse à grande échelle. La société indique que les équipements en vente des séries SSC800 et SSB800 reposent tous sur une plateforme à double table porte-plaquette développée de manière indépendante, équipée d'objectifs de projection nationaux à grande ouverture numérique, les indicateurs clés d'exposition et d'imagerie étant comparables aux produits internationaux équivalents.