fr.wedoany.com Rapport : Le 3 août, une start-up américaine a remporté le prix « Genesis Mission » du département de l'Énergie des États-Unis, un programme lancé par ce ministère pour promouvoir l'application de l'IA dans les domaines scientifiques et techniques. Cette entreprise envisage d'utiliser la lithographie par rayons X pour défier la position monopolistique d'ASML (ASML) sur le marché des machines de lithographie haut de gamme.
Commençons par expliquer à quel point ASML est puissant : une machine de lithographie à ultraviolets extrêmes (EUV) (l'équipement central pour « imprimer les circuits » des puces, dont seule cette entreprise néerlandaise peut fabriquer les modèles les plus avancés au monde) coûte 400 millions de dollars (environ 2,7 milliards de yuans), contient plus de 100 000 pièces, et son budget annuel de recherche et développement s'élève à 5 milliards de dollars.
Cette petite entreprise basée à San Francisco, nommée Inversion Semiconductor, envisage pourtant une autre voie : utiliser un laser à haute puissance pour chauffer un gaz (probablement de l'hydrogène ou de l'hélium), générer un plasma à ultra-haute température, et faire osciller les électrons à grande vitesse dans une structure magnétique pour produire de la lumière.
Cette lumière a une longueur d'onde plus courte, plus proche des rayons X, et peut produire 500 millions d'impulsions par seconde, contre 50 000 impacts de gouttelettes d'étain par seconde pour ASML, soit une différence de 10 000 fois.
Le fondateur de l'entreprise a fait une analogie : la lumière d'ASML se diffuse dans toutes les directions comme une ampoule et doit être collectée par une multitude de miroirs coûteux, tandis que leur lumière est aussi brillante et directionnelle qu'un laser, ce qui est beaucoup plus simple.
Grâce à ce concept, l'entreprise a déjà obtenu 500 000 dollars (environ 3,38 millions de yuans) d'investissement de pré-amorçage de la part de Y Combinator et d'Entrepreneur First, ainsi que 750 000 dollars (environ 5,07 millions de yuans) de financement du prix gouvernemental (partagé avec le Lawrence Berkeley National Laboratory).
Cependant, ce défi est encore loin : l'entreprise admet elle-même qu'il faudra encore plusieurs années avant de pouvoir fabriquer une machine de lithographie de test. Bien que leur laser ait été réduit d'une taille équivalente à plusieurs terrains de football à environ 30 mètres de long et 5 à 10 mètres de large, il reste une machine imposante.
Mais si cette voie aboutit vraiment, briser le monopole d'ASML et multiplier par 15 la vitesse de fabrication des puces signifierait une offre de puces plus abondante et des prix potentiellement plus bas — ce serait une véritable révolution.
