fr.wedoany.com Rapport : Le 24 juin, le fabricant néerlandais de lithographie ASML et l’Organisation néerlandaise pour la recherche scientifique appliquée (TNO) ont conclu un partenariat visant à faire passer les puces photoniques de la recherche expérimentale à la fabrication à grande échelle, en s’appuyant sur la Photonic Chip Pilot Line située sur le High Tech Campus d’Eindhoven. Une fois achevée, cette ligne pilote sera capable de produire des puces photoniques en phosphure d’indium sur des plaques de 6 pouces.
Cette ligne, dirigée par TNO, fait partie du projet européen PIXEurope. Son objectif est de fournir une plateforme industrielle pour les puces photoniques avancées en phosphure d’indium, couvrant la recherche, le prototypage et la validation de la production à grande échelle. Selon les informations officielles de TNO, la ligne sera construite sur le High Tech Campus d’Eindhoven et, une fois opérationnelle, servira à la fois de plateforme de test et d’usine de fabrication, soutenant l’ensemble du processus de production de puces photoniques InP avancées sur des plaques de 6 pouces.
Dans ce partenariat, le rôle d’ASML se concentre principalement sur la lithographie, le contrôle des processus et les capacités de métrologie. Selon l’accord, ASML fournira progressivement à la nouvelle usine de TNO un soutien technologique de fabrication, incluant des équipements de lithographie DUV et I-Line, et collaborera avec TNO pour établir un environnement de recherche et développement dédié à la conception, aux tests et à la validation des procédés de fabrication des puces photoniques. Pour l’industrie des puces photoniques, la capacité à reproduire de manière stable les procédés, à améliorer les rendements et à réduire les cycles de développement constitue un seuil critique pour passer du laboratoire à la production de masse.
Contrairement aux puces électroniques traditionnelles, les puces photoniques reposent sur l’utilisation de signaux lumineux pour la transmission, le traitement ou la modulation des informations. Le phosphure d’indium est un matériau adapté à la réalisation de fonctions optiques actives telles que les lasers, les modulateurs et les détecteurs. Il présente une valeur applicative importante dans des domaines comme les communications optiques à haut débit, l’interconnexion des centres de données, les infrastructures d’IA, la détection, le diagnostic médical, les communications 6G et les communications sécurisées. Avec la demande croissante de connectivité à faible consommation et à large bande passante dans les centres de données IA et les réseaux à haut débit, les puces photoniques passent de la technologie de pointe à une phase de compétition industrielle.
L’intégration d’ASML dans la ligne pilote de puces photoniques de TNO envoie un signal qui va au-delà de la simple fourniture d’équipements : les Pays-Bas souhaitent étendre leurs avantages dans les équipements semi-conducteurs, le contrôle des procédés et la fabrication de haute technologie à l’industrie de la photonique intégrée. La fabrication de puces photoniques nécessite également un transfert de motifs de haute précision, un alignement intercouches, une stabilité des procédés et une capacité de détection des défauts, des compétences étroitement liées à l’expertise accumulée par ASML en lithographie et en métrologie.
Pour l’Europe, cette ligne pilote de production de puces photoniques InP sur plaques de 6 pouces comble le maillon manquant entre la recherche et la fabrication. De nombreux prototypes de puces photoniques et de dispositifs ont déjà vu le jour dans des instituts de recherche, des start-ups et des laboratoires, mais pour pénétrer les marchés des communications, des centres de données et des applications industrielles, des capacités de fabrication reproductibles, vérifiables et évolutives sont indispensables. La construction de la ligne de TNO vise précisément à réduire l’écart entre les échantillons prototypes et les produits industriels.
La collaboration entre ASML et TNO stimulera également l’écosystème high-tech de Brainport, dont Eindhoven est le cœur. Cette région regroupe des ressources en équipements semi-conducteurs, technologies photoniques, intégration de systèmes, fabrication avancée et recherche universitaire, offrant une base industrielle pour connecter la recherche, les équipements, les procédés et les applications des puces photoniques. Avec l’avancement de la ligne pilote, les entreprises concernées pourront renforcer leur synergie dans des domaines tels que la fabrication de plaques, l’encapsulation et les tests, les outils de conception, les services de procédés et la validation des applications.
La valeur réelle de cette collaboration se mesurera sur la ligne de production. L’entrée des puces photoniques dans des applications à grande échelle ne dépend pas seulement des performances des dispositifs, mais aussi de la stabilité des paramètres sur une même plaque, de la cohérence entre les lots, de la détection précoce des défauts et de la réduction des coûts avec l’augmentation des volumes. En apportant ses capacités de lithographie et de métrologie à la ligne pilote de TNO, ASML vise à faire passer la fabrication des puces photoniques de « capable d’être produite » à « capable d’être produite de manière stable ».
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