fr.wedoany.com Rapport : Pour répondre à la forte augmentation de la demande de calcul liée à l’intelligence artificielle, Micron Technology a obtenu d’importantes subventions du gouvernement japonais et a lancé de manière inattendue la construction d’un nouveau bâtiment de production de mémoires à large bande passante de nouvelle génération dans son usine de la préfecture de Hiroshima.
Micron a investi un total de 1 500 milliards de yens (environ 9,3 milliards de dollars) dans son usine de Higashihiroshima, dans la préfecture de Hiroshima, au Japon, pour lancer l’extension d’une ligne de production de semi-conducteurs de mémoire avancés. Ce nouveau bâtiment de production, dont les travaux ont débuté, prévoit de produire par phases la prochaine génération de mémoire à large bande passante (HBM) HBM4E, nécessaire aux processeurs IA de NVIDIA, ainsi que des gammes de produits DRAM basés sur des procédés de pointe. Afin de garantir un approvisionnement stable en infrastructures de fabrication, le ministère japonais de l’Économie, du Commerce et de l’Industrie a décidé d’accorder une subvention pouvant atteindre 536 milliards de yens, soit un tiers du montant total de l’investissement. L’installation des équipements et la mise en service de la ligne de production dans cette usine débuteront progressivement à partir du second semestre 2028.
L’acquisition de ce nouveau site de production s’inscrit dans le cadre de la course aux investissements en équipements menée par les acteurs mondiaux de la mémoire pour prendre l’avantage dans le domaine de l’intelligence artificielle. Micron investit actuellement 50 milliards de dollars dans la construction d’une méga-usine de plaquettes à Boise, dans l’Idaho, aux États-Unis, et accélère un projet de méga-usine de 100 milliards de dollars à Clay, dans l’État de New York, avec pour objectif une mise en service d’ici 2030. SK Hynix et Samsung Electronics étendent également massivement leurs capacités de production de mémoires hautes performances.
Dans un contexte de risques multiples pour la chaîne d’approvisionnement, le choix de Micron d’implanter une base supplémentaire au Japon s’explique par le taux élevé d’autosuffisance de l’écosystème local de composants. Selon la filiale japonaise de Micron, environ 80 % des principaux matériaux et équipements semi-conducteurs nécessaires à l’usine de plaquettes d’Hiroshima sont achetés auprès de partenaires locaux japonais, minimisant ainsi l’incertitude liée aux achats d’équipements à l’étranger. De plus, la décision du gouvernement japonais de désigner les semi-conducteurs comme un actif clé de la sécurité économique et de mettre en place un soutien financier global a également favorisé le choix de Micron. Depuis 2021, le gouvernement japonais a investi des dizaines de milliers de milliards de yens pour revitaliser les secteurs des semi-conducteurs et de l’IA, et a déjà alloué un total cumulé de 775 milliards de yens de subventions à la seule entreprise Micron. Le mois dernier, la Première ministre japonaise, Sanae Takaichi, a annoncé une feuille de route à long terme prévoyant un investissement total public-privé de 101 600 milliards de yens dans les semi-conducteurs et l’IA d’ici mars 2041, exprimant ainsi la volonté de construire une chaîne d’approvisionnement complète de semi-conducteurs au Japon.
Lors de la cérémonie de lancement des travaux, le PDG de Micron, Sanjay Mehrotra, a souligné que la première plaquette HBM de Micron avait été produite à Hiroshima, au cœur de la technologie IA. Le ministre japonais de l’Économie, du Commerce et de l’Industrie, Ryosei Akazawa, a estimé que la généralisation de l’IA générative entraînait une expansion rapide de la demande de mémoires semi-conductrices, et que Micron, étant le seul fabricant de DRAM sur le territoire japonais, l’extension de sa base de production revêtait une valeur inestimable pour consolider la base de fabrication nationale et construire un système d’approvisionnement mondial stable.
