Le ministère russe de l’Industrie et du Commerce allouera 1,4 milliard de roubles au développement d’équipements de traitement humide des tranches de silicium
2026-06-29 09:09
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fr.wedoany.com Rapport : Le ministère russe de l’Industrie et du Commerce (Минпромторг РФ) prévoit d’allouer environ 1,4 milliard de roubles au développement d’équipements nationaux de traitement chimique humide des tranches de silicium. Cet équipement, une ligne de production automatisée, est principalement destiné à la gravure, au nettoyage et au séchage des tranches de silicium de diamètres 100, 150 et 200 mm, afin de remplacer les produits américains et japonais actuellement utilisés par les entreprises russes.

L’appel d’offres pour le développement du prototype a été publié sur le portail des marchés publics. Selon les conditions de l’appel d’offres, l’équipement doit pouvoir traiter des tranches de silicium d’un diamètre allant jusqu’à 200 mm, avec une capacité maximale de 100 tranches par lot. L’équipement doit être compatible avec au moins huit réactifs chimiques, notamment l’acide fluorhydrique, l’acide sulfurique, l’acide chlorhydrique, l’ammoniaque et le peroxyde d’hydrogène. Différentes formulations chimiques seront utilisées pour différentes étapes, et le système doit pouvoir basculer automatiquement sans mélanger les substances incompatibles. Les composants clés, tels que le rotor, le système d’alimentation en produits chimiques, le contrôleur et le logiciel, doivent être de fabrication russe, et les composants importés ne peuvent être utilisés qu’avec l’accord du client.

Le ministère prévoit d’achever les travaux de développement d’ici novembre 2029. L’exécutant a été déterminé le 19 juin, mais son nom est masqué dans le système des marchés publics. Le ministère n’a pas divulgué le soumissionnaire avant la signature du contrat, mais a confirmé que cette orientation sera poursuivie dans le cadre du programme de fabrication électronique et mécanique. Les experts expliquent que la gravure humide est un procédé de traitement utilisant des solutions chimiques pour dissoudre uniformément la couche superficielle du matériau, afin d’éliminer les couches épaisses, les contaminants et de retirer sélectivement le matériau sans défaut. Dans les premières étapes de la production en série, la gravure humide est plus fréquemment utilisée, tandis que les opérations plus fines recourent à la gravure chimique par plasma. Cette dernière utilise un gaz ionisé dans une chambre à vide pour agir sur le matériau, permettant de former des structures avec une haute précision. Le procédé humide est moins coûteux et plus facile à organiser pour la production en série.

L’étape de traitement chimique détermine la qualité des futures puces, c’est pourquoi l’équipement doit effectuer la gravure, le nettoyage et le séchage des tranches de silicium dans des conditions strictement contrôlées. La stabilité de ces processus détermine la fiabilité de l’ensemble du flux de travail. Actuellement, il n’existe pas de substitut national direct pour ce type d’équipement en Russie. Cependant, le pays dispose de certaines capacités en matière d’automatisation, de matériaux résistants aux produits chimiques et de logiciels industriels. Les experts supposent que ce développement pourrait être réalisé par des entités du groupe « Элемент », notamment l’Institut de recherche en microélectronique de Russie (НИИМЭ) et l’Institut de recherche en microélectronique technologique de Russie (НИИТМ). Selon les experts, le financement annoncé est suffisant pour soutenir les travaux de conception expérimentale, mais sans marge importante. De tels projets nécessitent des mises au point, des tests, un travail en environnement de salle blanche et de multiples itérations à long terme ; la coopération ainsi que l’accès aux technologies et aux matériaux seront des facteurs clés.

En juin 2026, le ministère a également publié d’autres appels d’offres pour des travaux de conception expérimentale dans le domaine de la microélectronique, pour un montant total de subvention de 7,6 milliards de roubles. Ces fonds sont destinés au développement d’équipements et de matériaux nécessaires à la lithographie, à l’épitaxie par jets moléculaires, au contrôle de l’implantation ionique et à la microscopie électronique à balayage. Selon les données fournies par Valeri Pivenia (Валерий Пивеня), directeur du département de la construction de machines-outils et de l’industrie lourde du ministère, la production de ce secteur est passée de 2,93 milliards de roubles en 2023 à 5,32 milliards de roubles en 2025, et il est prévu que cet indicateur pourrait encore augmenter de près de 5 % en 2026 pour atteindre 5,58 milliards de roubles.

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