fr.wedoany.com Rapport : L'Institut coréen de recherche en mécanique (KIMM) a développé pour la première fois une technologie capable d'analyser et de contrôler des semi-conducteurs bidimensionnels à l'échelle atomique (1 à 2 nanomètres) à l'aide de l'intelligence artificielle (IA). Cette technologie vise à améliorer considérablement la reproductibilité et la productivité des procédés.

L'Institut coréen de recherche en mécanique a annoncé le 17 que l'équipe de recherche du Centre de recherche sur les équipements de semi-conducteurs, dirigée par le chercheur principal Kim Hyung-woo, a développé un procédé de synthèse et de gravure de semi-conducteurs bidimensionnels de nouvelle génération (MoS₂, WS₂) de 6 pouces en utilisant des équipements PECVD (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma) et RIE (gravure ionique réactive) basés sur un plasma à basse température, et a réussi à intégrer ce procédé dans un système intelligent basé sur l'IA.

L'équipe de recherche a mesuré en temps réel les variations de la lumière et de la masse des gaz générées au cours du procédé, et les a analysées à l'aide de l'apprentissage automatique pour prédire l'état du procédé. L'équipe a également utilisé divers équipements de diagnostic en temps réel (OES, ToF-MS, QMS, etc.) pour obtenir des données multimodales de séries temporelles, et les a appliquées à des modèles d'apprentissage automatique, réussissant ainsi à prédire avec une précision atomique l'épaisseur des semi-conducteurs.

Cette technologie est conçue sur la base d'un procédé plasma à basse température, ce qui lui permet d'être compatible avec les équipements de production existants. Elle permet une gravure à l'échelle atomique en un seul procédé, tout en garantissant l'efficacité et la productivité du procédé. Le chercheur principal Kim Hyung-woo a déclaré qu'il était important de réaliser un procédé de semi-conducteurs bidimensionnels à l'échelle atomique sur des plaquettes de 6 pouces dans un environnement à basse température. Il prévoit de développer cette technologie pour en faire une technologie clé pour l'automatisation et l'intelligence des procédés de fabrication de semi-conducteurs de nouvelle génération.

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