fr.wedoany.com Rapport : En collaboration avec LITEK, PRINANO a utilisé son équipement de nano-impression (NIL) à pression pneumatique sur tranche PL-AS, ainsi que les matériaux et procédés de résine bicouche associés, pour réaliser une production en série de tranches de puces optiques de 8 pouces sans recourir à la lithographie DUV, pour un coût de fabrication équivalant seulement à un dixième de celui des solutions traditionnelles de lithographie DUV.

La machine PL-AS atteint une résolution de largeur de ligne inférieure à 10 nanomètres, avec une erreur d'uniformité de la pression d'impression sur toute la tranche contrôlée à moins de 0,5 %. Elle prend en charge le procédé d'impression sans couche résiduelle, et la précision d'alignement peut être personnalisée jusqu'à une centaine de nanomètres. Cet équipement est compatible avec les substrats plans et courbes, et peut s'adapter à deux types de moules : rigides et flexibles.

Comparé au NIL sur tranche par laminage traditionnel, le PL-AS utilise une méthode d'application de force surfacique, garantissant une répartition uniforme de la force sur chaque élément nanométrique à la surface de la tranche, ce qui maintient l'écart RLT en dessous de 2 nanomètres. Son débit est également supérieur à celui des équipements NIL pas-à-pas de Canon. En tant qu'équipement pneumatique, la structure globale du PL-AS de PRINANO est plus simple que celle des systèmes de lithographie DUV, sans nécessiter de modules optiques coûteux, et il peut utiliser des moules composites à plus longue durée de vie. Ces facteurs constituent ensemble son avantage significatif en termes de coût.

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